Vstrekovací strojGMI SHEN FEI
ZQCB
Vstrekovací stroj
GMI SHEN FEI
ZQCB
Počiatočná cena bez DPH
2 500 €
Rok výroby
2021
Stav
Použitý
Umiestnenie
Maasmechelen 

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Údaje o stroji
- Popis stroja:
- Vstrekovací stroj
- Výrobca:
- GMI SHEN FEI
- Model:
- ZQCB
- Rok výroby:
- 2021
- Stav:
- takmer ako nový (použitý)
- Funkčnosť:
- plne funkčný
Cena a lokalita
Počiatočná cena bez DPH
2 500 €
- Umiestnenie:
- Breitwatertraat 22, 3630 Maasmechelen, Belgium

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Podrobnosti ponuky
- ID záznamu:
- A20692250
- Referenčné č.:
- S-IGL-2241
- Naposledy aktualizované:
- dňa 11.02.2026
Popis
Während spezifische proprietäre Dokumentationen für das Modell "Shen Fei ZQCB" in allgemeinen technischen Datenbanken nur begrenzt verfügbar sind, bezieht sich der GWL-1600 ZQCB auf einen Hochtemperatur-Elektrowiderstandsofen der Firma Luoyang Torch Star Furnace Co., Ltd., der spezialisierte Gasbefüllungs- und Vakuumverfahren für die Materialherstellung nutzt.
Im Kontext der Materialsynthetisierung (wie etwa CF-SiCNWs/Al-Verbundwerkstoffe) folgt der Gasbefüllungsprozess des ZQCB-Ofens einer strengen Abfolge, um eine kontrollierte Atmosphäre sicherzustellen:
Kernprozess Gasbefüllung & Atmosphärenkontrolle:
- Vakuumierung: Vor dem Einleiten des Gases wird die Ofenkammer evakuiert, um Umgebungsluft und Verunreinigungen zu entfernen.
- Spülen und Druckbeaufschlagung: Nach der Evakuierung wird die Kammer mit einer Schutzgasatmosphäre – üblicherweise Argon (Ar) – gespült und auf einen Standarddruck von 0,1 MPa gebracht.
- Schutzatmosphäre: Die Gasbefüllung dient der Erzeugung einer inerten Umgebung, die Oxidation während der Hochtemperaturverdampfung oder Sinterprozesse verhindert.
Technologischer Kontext
Falls „Shen Fei“ sich auf den Bereich Engineering oder Halbleitertechnik bezieht (zum Beispiel Shen Yi Engineering oder ähnliche Firmen), beinhalten Gasversorgungssysteme für diese Hochreinheitsanwendungen typischerweise:
- Ultra-High Purity (UHP) Gasversorgung: Systeme für die Halbleiterindustrie, die voluminöse Gase wie Stickstoff, Helium, Wasserstoff und Argon mit präziser Durchfluss- und Druckregelung verwalten.
- Automatisierte Spülzyklen: Komplexe Gasschränke mit SPS-gesteuerter automatischer Spülung für sichere Flaschenwechsel und Wartungsarbeiten.
- Überwachung und Sicherheit: Diese Systeme sind oft mit Echtzeit-Überwachung für Druck und Gewicht, Strömungswächtern und automatischer Abschaltung bei Alarm ausgestattet.
Typische Komponenten moderner Gasbefüllungssysteme
Komponente Funktion
Massendurchflussregler (MFC) Sichern einen präzisen Gasdurchfluss zwischen 5 cc/min und 250 L/min.
Automatischer Umschalter Wechselt zwischen Haupt- und Sekundärgasquelle ohne Unterbrechung der Versorgung.
Kwsdpfxox Dtk Ie Aa Iou
Druckregler Reduzieren den Ausgangsdruck für ideale Prozessspezifikationen.
Gasschrank Abgeschlossene, belüftete Einhausungen, die potenzielle Leckagen aufnehmen und Hochreinmanifolds beherbergen.
Soll ich speziell nach technischen Handbüchern für die ZQCB-Ofenserie von Luoyang Torch Star suchen, oder interessieren Sie sich für ein anderes Gasverteilungsprodukt von „Shen Fei“?
Inzercia bola automaticky preložená a vyskytli sa nejaké chyby prekladu.
Im Kontext der Materialsynthetisierung (wie etwa CF-SiCNWs/Al-Verbundwerkstoffe) folgt der Gasbefüllungsprozess des ZQCB-Ofens einer strengen Abfolge, um eine kontrollierte Atmosphäre sicherzustellen:
Kernprozess Gasbefüllung & Atmosphärenkontrolle:
- Vakuumierung: Vor dem Einleiten des Gases wird die Ofenkammer evakuiert, um Umgebungsluft und Verunreinigungen zu entfernen.
- Spülen und Druckbeaufschlagung: Nach der Evakuierung wird die Kammer mit einer Schutzgasatmosphäre – üblicherweise Argon (Ar) – gespült und auf einen Standarddruck von 0,1 MPa gebracht.
- Schutzatmosphäre: Die Gasbefüllung dient der Erzeugung einer inerten Umgebung, die Oxidation während der Hochtemperaturverdampfung oder Sinterprozesse verhindert.
Technologischer Kontext
Falls „Shen Fei“ sich auf den Bereich Engineering oder Halbleitertechnik bezieht (zum Beispiel Shen Yi Engineering oder ähnliche Firmen), beinhalten Gasversorgungssysteme für diese Hochreinheitsanwendungen typischerweise:
- Ultra-High Purity (UHP) Gasversorgung: Systeme für die Halbleiterindustrie, die voluminöse Gase wie Stickstoff, Helium, Wasserstoff und Argon mit präziser Durchfluss- und Druckregelung verwalten.
- Automatisierte Spülzyklen: Komplexe Gasschränke mit SPS-gesteuerter automatischer Spülung für sichere Flaschenwechsel und Wartungsarbeiten.
- Überwachung und Sicherheit: Diese Systeme sind oft mit Echtzeit-Überwachung für Druck und Gewicht, Strömungswächtern und automatischer Abschaltung bei Alarm ausgestattet.
Typische Komponenten moderner Gasbefüllungssysteme
Komponente Funktion
Massendurchflussregler (MFC) Sichern einen präzisen Gasdurchfluss zwischen 5 cc/min und 250 L/min.
Automatischer Umschalter Wechselt zwischen Haupt- und Sekundärgasquelle ohne Unterbrechung der Versorgung.
Kwsdpfxox Dtk Ie Aa Iou
Druckregler Reduzieren den Ausgangsdruck für ideale Prozessspezifikationen.
Gasschrank Abgeschlossene, belüftete Einhausungen, die potenzielle Leckagen aufnehmen und Hochreinmanifolds beherbergen.
Soll ich speziell nach technischen Handbüchern für die ZQCB-Ofenserie von Luoyang Torch Star suchen, oder interessieren Sie sich für ein anderes Gasverteilungsprodukt von „Shen Fei“?
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